Filtr UV K&F Concept Nano C-HMC to wysokiej jakości filtr, który chroni obiektyw przed uszkodzeniami mechanicznymi, zabrudzeniami i promieniowaniem UV. Dzięki wielowarstwowej powłoce HMC (High Multi-Coating) filtr minimalizuje odblaski, poprawia kontrast i zapewnia doskonałą przejrzystość obrazu.
